潔凈厭氧高溫氣氛爐
DTN430C/630C/450C/650C潔凈厭氧高溫氣氛爐工作溫度DTN430C/630C：360℃、DTN450C/650C：500℃，潔凈度100級，氧濃度20ppm，DTN430C內容積為91L，DTN630C內容積為216L，DTN450C內容積為91L，DTN650C內容積為216L。
●潔凈度100級、氧濃度低于20ppm的氣氛爐，主要應用于固化半導體晶圓等
● 高工作溫度 360℃和 500℃、潔凈度 100 級、氧濃度低于20ppm，主要應用于固化半導體晶圓（光刻膠 PI、PBO 固化）、玻璃基板烘烤、高精度退火處理等
● 采用耐熱高性能高效過濾器，箱內潔凈度始終保持在 100 級，可在潔凈的環境下進行高溫烘烤
● 高氣密性的壓力箱構造，氧濃度到達時間短，N2 消耗量極低
● 通過磁密封保持高氣密性，并采用水冷機構保護密封部件免受熱量影響
● 可實現快速升溫和降溫，升降溫速率可調節
● 標準裝備有廢液回收裝置，對氣體進行冷卻回收
安全性
● 擁有門檢測開關、溫度過升防止器、氧濃度異常、氮氣壓力檢測、氮氣流量檢測、冷卻水流量檢測、漏水傳感器、過電流漏電漏電保護開關等安裝裝置
DTN430C/630C/450C/650C潔凈厭氧高溫氣氛爐的技術規格
備案號：滬ICP備18009883號-3 技術支持：化工儀器網 GoogleSitemap 管理登陸
在線客服1號